发明名称 |
具有低反射和高接触角的基板及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种基板,其包括:基底,该基底的至少一面上具有图案,其中,根据该图案的形状,该图案的下部区域的折射率和该图案的上部区域的折射率彼此不同;和斥水涂层,该斥水涂层设置在所述基底的至少一个具有图案的面上,以及本发明提供一种包括所述基板的光学产品和该基板的制备方法。根据本发明的基板具有优异的防反射性能和优异的斥水性能。 |
申请公布号 |
CN102597815A |
申请公布日期 |
2012.07.18 |
申请号 |
CN201080049593.0 |
申请日期 |
2010.10.28 |
申请人 |
LG化学株式会社 |
发明人 |
金台洙;金在镇;辛富建;洪瑛晙;崔贤 |
分类号 |
G02B1/10(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B1/10(2006.01)I |
代理机构 |
北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 |
代理人 |
黄丽娟;陈英俊 |
主权项 |
一种基板,包括:1)基底,在该基底的至少一面上具有图案,其中,根据该图案的形状,该图案的下部区域的折射率和该图案的上部区域的折射率彼此不同;和2)斥水涂层,该斥水涂层设置在所述基底的至少一个具有图案的面上。 |
地址 |
韩国首尔 |