发明名称 具有低反射和高接触角的基板及其制备方法
摘要 本发明提供一种基板,其包括:基底,该基底的至少一面上具有图案,其中,根据该图案的形状,该图案的下部区域的折射率和该图案的上部区域的折射率彼此不同;和斥水涂层,该斥水涂层设置在所述基底的至少一个具有图案的面上,以及本发明提供一种包括所述基板的光学产品和该基板的制备方法。根据本发明的基板具有优异的防反射性能和优异的斥水性能。
申请公布号 CN102597815A 申请公布日期 2012.07.18
申请号 CN201080049593.0 申请日期 2010.10.28
申请人 LG化学株式会社 发明人 金台洙;金在镇;辛富建;洪瑛晙;崔贤
分类号 G02B1/10(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I 主分类号 G02B1/10(2006.01)I
代理机构 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人 黄丽娟;陈英俊
主权项 一种基板,包括:1)基底,在该基底的至少一面上具有图案,其中,根据该图案的形状,该图案的下部区域的折射率和该图案的上部区域的折射率彼此不同;和2)斥水涂层,该斥水涂层设置在所述基底的至少一个具有图案的面上。
地址 韩国首尔