发明名称 制造细研磨垫的方法以及化学机械研磨方法
摘要 本发明提供了一种制造细研磨垫的方法以及化学机械研磨方法。在根据本发明的通过固定切割方向来制造细研磨垫的方法中,所述细研磨垫为U形细研磨垫,而细磨垫修整部件仅仅沿固定修整方向在所述U型细研磨垫上进行修整,所述方法包括:在细研磨垫的制造过程中,固定所述U型细研磨垫的剪切方向,以确保细研磨垫上的小方格在修整方向上的宽度较窄。根据本发明,修整方向的尺寸小意味着在修整器修整时会修整到更多的沟槽;这样,由于研磨中产生的副产物都会堆积在沟槽中,修整器修整到的沟槽多,自然就可以对副产物清理效果更明显,后续的研磨平坦度就会好。因此,通过上述方法,可以有效地控制细研磨垫质量,改善在细研磨垫上研磨后的芯片的均匀性。
申请公布号 CN102554784A 申请公布日期 2012.07.11
申请号 CN201210030421.X 申请日期 2012.02.10
申请人 上海宏力半导体制造有限公司 发明人 李协吉;张泽松;程君;李志国
分类号 B24B53/017(2012.01)I;B24B37/26(2012.01)I 主分类号 B24B53/017(2012.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 郑玮
主权项 一种通过固定切割方向来制造细研磨垫的方法,所述细研磨垫为U形细研磨垫,而细磨垫修整部件仅仅沿固定修整方向在所述U型细研磨垫上进行修整,其特征在于所述方法包括:在细研磨垫的制造过程中,固定所述U型细研磨垫的剪切方向,以确保细研磨垫上的小方格在修整方向上的宽度较窄。
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