发明名称 |
动态回转真空干燥法脱去水飞蓟素表面上的溶剂残留 |
摘要 |
本发明提供了一种动态回转真空干燥法脱去水飞蓟素表面上的溶剂残留,所要解决的问题是:静态干燥法脱去溶剂残留的效果不好,溶剂残留量较大。本发明的要点是:将待脱去溶剂残留的水飞蓟素,放入双锥回转真空干燥机的干燥罐里,放入的水飞蓟素以不超过干燥罐容积的一半为限,给双锥回转真空干燥机通电工作并通蒸汽加温,加至80℃,保持80℃温度1个小时以上。本发明的有益效果是:由于罐内的物料在真空、低温环境下受热均匀,大大降低了溶剂残留量。降低了处理的劳动强度,提高了处理的效率提高。 |
申请公布号 |
CN102532112A |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201110406713.4 |
申请日期 |
2011.12.09 |
申请人 |
邸凤阁 |
发明人 |
邸凤阁 |
分类号 |
C07D407/04(2006.01)I;F26B7/00(2006.01)I |
主分类号 |
C07D407/04(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳科威专利代理有限责任公司 21101 |
代理人 |
王勇 |
主权项 |
一种动态回转真空干燥法脱去水飞蓟素表面上的溶剂残留,其特征是:将待脱去溶剂残留的水飞蓟素,放入双锥回转真空干燥机的干燥罐里,放入的水飞蓟素以不超过干燥罐容积的一半为限,给双锥回转真空干燥机通电工作并通蒸汽加温,加至80℃,保持80℃温度1个小时以上。 |
地址 |
124124 辽宁省盘锦市大荒乡工业区88号 |