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发明名称
Alternated flow deposition of compound semiconductor layers by pulsed hibrid sputtering technique
摘要
申请公布号
GB201208438(D0)
申请公布日期
2012.06.27
申请号
GB20120008438
申请日期
2012.05.15
申请人
FERNANEZ, IVAN;NANO4ENERGY SLNE;BRIONES, FERNANDO
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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