Verfahren zum nasschemischen Ätzen einer Silziumschicht

摘要

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum nasschemischen Ätzen einer hochdotierten Siliziumschicht in einer Ätzlösung. Um eine homogene Ätzung durchführen zu können, wird vorgeschlagen, dass als Ätzlösung eine alkalische Ätzlösung mit zumindest einem Oxidationsmittel aus der Gruppe Peroxodisulfate, Peroxomonosulfate, Hypochlorit verwendet wird.