| 发明名称 | 多嵌段共聚物及其制法和由它制备的聚合物电解质膜及其制法以及采用该膜的燃料电池 | ||
| 摘要 | 提供一种多嵌段共聚物，包括：下面式(1)的聚砜重复单元；下面式(2)的磺化聚砜重复单元；及该多嵌段共聚物末端的烯不饱和基团，其中l和m为1～200的整数；R <sub>1</sub>至R <sub>4</sub>各自独立地为氢、氟或可被至少一个氟原子取代的C <sub>1</sub>-C <sub>10</sub>烷基；及X代表四烷基铵阳离子。提供该多嵌段共聚物的制备方法，由该多嵌段共聚物制备的聚合物电解质膜，聚合物电解质膜的制备方法，及包括该聚合物电解质膜的燃料电池。该聚合物电解质膜具有高离子电导率和优异的机械性能，可以使甲醇渗透最小化，并且可以低成本制造。另外，该多嵌段共聚物的结构可以改变，以增加对聚合物电解质膜中所用溶剂的选择性。<img file="dsb00000600656200011.GIF" wi="1452" he="805" /> | ||
| 申请公布号 | CN101024690B | 申请公布日期 | 2012.04.18 |
| 申请号 | CN200610087658.6 | 申请日期 | 2006.05.31 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 金惠庆;李元木;郑镇喆;张赫;朴三大;张伦珠 |
| 分类号 | C08G75/20(2006.01)I;C08J5/22(2006.01)I;H01M8/02(2006.01)I | 主分类号 | C08G75/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 张平元;赵仁临 |
| 主权项 | 1.一种多嵌段共聚物，包括：下面式(1)的聚砜重复单元；下面式(2)的磺化聚砜重复单元；及位于该多嵌段共聚物末端的烯不饱和基团：<img file="FSB00000600656300011.GIF" wi="1100" he="810" />式中l和m为1～200的整数；R<sub>1</sub>至R<sub>4</sub>各自独立地为氢、氟或可被至少一个氟原子取代的C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基；及X代表四烷基铵阳离子。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||