发明名称 |
反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质 |
摘要 |
本发明是在由银或银合金形成的基质中分散由铝、镁、锡、锌、铟、钛、锆、锰、硅的氮化物、氧化物、复合氧化物、氮氧化物、碳化物、硫化物、氯化物、除硅以外的硅化物、氟化物、硼化物、氢化物、磷化物、硒化物、碲化物中的至少一种形成的化合物相而成的反射膜或半透反射膜用的薄膜。除铝等之外,该薄膜还可以包含银、镓、钯、铜的氮化物、氧化物、复合氧化物、氮氧化物、碳化物、硫化物、氯化物、硅化物、氟化物、硼化物、氢化物、磷化物、硒化物、碲化物中的至少一种。本发明的薄膜即使长期使用反射率的下降也少,可以延长光记录介质、显示器等采用反射膜的各种装置的寿命。此外,也可以用于光记录介质中所采用的半反半透膜。 |
申请公布号 |
CN101449184B |
申请公布日期 |
2012.04.04 |
申请号 |
CN200680054798.1 |
申请日期 |
2006.11.17 |
申请人 |
田中贵金属工业株式会社 |
发明人 |
小幡智和;柳原浩 |
分类号 |
G02B5/08(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/08(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
冯雅 |
主权项 |
反射膜用的薄膜,其特征在于,在由银合金形成的基质中以0.001‑2.5重量%分散由锡、锌、铟、锆的氮化物或者锡、锌、铟、锆的氧化物中的任意一种所形成的化合物相而成;上述银合金是银和镓和铜的合金,或者是银和钯和铜的合金,与银合金化的金属的浓度是0.01‑5重量%。 |
地址 |
日本东京 |