发明名称 合成铜盘研磨盘
摘要 本实用新型公开了一种合成铜盘研磨盘,包括合成铜盘研磨盘本体,其特征在于所述合成铜盘研磨盘本体表面设置若干起伏的凹槽,所述合成铜盘研磨盘中心位置设置环形空白。该盘可以实现高精度抛光、光学实验,同时有效的提高设备产能,可以显著提高工件的磨削速率。
申请公布号 CN202174508U 申请公布日期 2012.03.28
申请号 CN201120179072.9 申请日期 2011.05.30
申请人 上海百兰朵电子科技有限公司 发明人 朱孟奎
分类号 B24D7/00(2006.01)I 主分类号 B24D7/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种合成铜盘研磨盘,包括合成铜盘研磨盘本体,其特征在于所述合成铜盘研磨盘本体表面设置若干起伏的凹槽,所述合成铜盘研磨盘中心位置设置环形空白。
地址 200433 上海市翔殷路751号123室