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Verfahren zum Herstellen einer Belichtungsmaske, gekennzeichnet durch: Vorbereiten von nativen Ebenheitsdaten (1) und vorhergesagten Ebenheitsdaten (2, 2M) in Bezug auf ein Maskenrohlingssubstrat, das in eine Belichtungsmaske zu verarbeiten ist, wobei die vorhergesagten Ebenheitsdaten (2, 2M) Daten in Bezug auf eine Änderung der Ebenheit des Maskenrohlingssubstrats sind, die verursacht wird, wenn das Maskenrohlingssubstrat durch eine Einspannungseinheit einer Belichtungsvorrichtung eingespannt ist; Generieren von Positionskorrekturdaten (4) eines Musters, das auf dem Maskenrohlingssubstrat zu zeichnen ist, basierend auf den nativen Ebenheitsdaten (1) und den vorhergesagten Ebenheitsdaten (2, 2M), derart, dass ein Maskenmuster der Belichtungsmaske auf eine vorbestimmte Position in einem Zustand, in dem die Belichtungsmaske durch die Einspannungseinheit eingespannt ist, gebracht wird; und Zeichnen eines Musters auf dem Maskenrohlingssubstrat, wobei das Zeichnen des Musters ein Zeichnen des Musters mit einer Korrektur einer Zeichnungsposition des Musters und Eingeben von Zeichnungsdaten (6) entsprechend dem Muster und den Positionskorrekturdaten (4) in eine Zeichnungsvorrichtung... |
