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Immersionslithographiesystem (100; 400; 500) mit: einer Quelle für eine eine photochemische Wirkung hervorrufende Strahlung, einer Linse (108), einer Immersionsflüssigkeit und einem Immersionsraumbereich (110) zum Halten der Immersionsflüssigkeit in Kontakt mit der Linse (108) und in Kontakt mit einem Photolack (104), der auf einer Scheibe (102, 506) angeordnet ist; einer Quelle für ein superkritisches Fluid; einem Ventilsystem (112, 114, 116, 118), das ausgebildet ist, die Immersionsflüssigkeit von dem Immersionsraumbereich abzuführen und den Immersionsraumbereich mit dem superkritischen Fluid zu füllen, wobei das Ventilsystem ferner ausgebildet ist, das superkritische Fluid von dem Immersionsraumbereich abzuführen und den Immersionsraumbereich mit der Immersionsflüssigkeit zu füllen und das ferner umfasst: eine Überwachungskomponente (504), die ausgebildet ist, Material auf der Linse (108) und/oder in der Immersionsflüssigkeit und/oder in dem Immersionsraumbereich und/oder auf dem Phte (406; 502), die ausgebildet ist, das Ventilsystem so zu steuern, dass der...
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