发明名称 图案修正方法及图案修正装置
摘要 本发明提供一种可用10μm左右的细线来修正断线缺陷部等、且缺陷部周围的污染小的图案修正方法。在所述图案修正方法中,在膜(3)的表面上照射激光来形成通孔(3a),使通孔(3a)的膜(3)表面侧的开口部与缺陷部(2a)空开规定间隙(G)地对置,在包括通孔(3a)在内的规定范围内将膜(3)推压在基板(1)上并通过通孔(3a)在缺陷部上涂敷修正浆液(12),以膜(3)的恢复力使膜(3)从基板(1)上剥离。因此,可抑制修正浆液(12)因毛细管现象而流入膜(3)与基板(1)之间。
申请公布号 CN101140364B 申请公布日期 2012.02.08
申请号 CN200710148861.4 申请日期 2007.09.04
申请人 NTN株式会社 发明人 小池孝志;清水茂夫
分类号 G02F1/13(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;H01J9/02(2006.01)I;H01J9/50(2006.01)I 主分类号 G02F1/13(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 马淑香
主权项 一种图案修正方法,对基板上形成的微细图案的缺陷部进行修正,其特征在于,包括对膜照射激光来形成用于修正所述缺陷部的掩模图案的第一步骤,所述掩模图案包括:在所述膜的射入所述激光的一侧的表面上形成的具有与所述缺陷部相应的形状的开口部、以及与该开口部连通的至少一个通孔,所述图案修正方法还包括:使所述掩模图案的所述开口部与所述缺陷部空开规定间隙地对置的第二步骤;在包括所述开口部在内的规定范围内将所述膜推压在所述基板上并通过所述掩模图案在所述缺陷部上涂敷修正液的第三步骤;以及以所述膜的恢复力使所述膜从所述基板上剥离的第四步骤。
地址 日本大阪府