| 发明名称 | 溅射靶、透明导电膜、透明电极和电极基板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种溅射靶、透明导电膜、透明电极和电极基板及其制造方法，所述溅射靶的特征在于，含有铟、锡、锌及氧，利用X射线衍射(XRD)，基本上只观测到红绿柱石结构化合物的峰。 | ||
| 申请公布号 | CN102337505A | 申请公布日期 | 2012.02.01 |
| 申请号 | CN201110267233.4 | 申请日期 | 2006.08.30 |
| 申请人 | 出光兴产株式会社 | 发明人 | 矢野公规;井上一吉;田中信夫;海上晓;梅野聪 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 雒运朴 |
| 主权项 | 一种溅射靶，其特征在于，含有铟、锡、锌及氧，利用X射线衍射XRD，基本上只观测到红绿柱石结构化合物的峰。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||