光刻设备和光刻设备冷却方法

摘要

本发明涉及一种光刻设备和光刻设备冷却方法，所述光刻设备包括：照射系统，配置成调节辐射束；支撑件，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束横截面中将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；和冷却系统，用于冷却所述光刻设备中的零件，增加了冷却能力，以降低从所述零件至所述设备的其它零件的热传递。

主权项

一种光刻设备，所述光刻设备包括：照射系统，配置成调节辐射束；支撑件，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束横截面中将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；和冷却系统，用于冷却所述光刻设备中的零件，所述冷却系统包括：‑包含冷却剂的冷却通道，所述冷却通道至少部分地与所述零件热接触，所述冷却通道具有入口和出口；‑冷却剂传输器装置，配置成将冷却剂从所述入口通过所述冷却通道传输至所述出口；和‑热传输器装置，其与所述冷却通道的入口和出口热接触，以将热量从位于所述入口的冷却剂传递至位于所述出口处的冷却剂。