| 主权项 |
一种灰阶罩幕，系在被转印基板上，具有厚抗蚀剂图案形成部、薄抗蚀剂图案形成部和无抗蚀剂区域形成部，用来形成厚抗蚀剂图案，薄抗蚀剂图案，和无抗蚀剂区域，上述薄抗蚀剂图案形成部由半透光部构成，厚抗蚀剂图案和无抗蚀剂区域形成部，分别由依照被转印基板上之抗蚀剂之正型或负型所决定之遮光部或透光部构成；其特征在于：上述灰阶罩幕具有：上述厚抗蚀剂图案形成部，其形成在与薄膜电晶体基板之源极电极和汲极电极对应之图案之源极电极和汲极电极之对向部份；上述薄抗蚀剂图案形成部，其形成在源极电极和汲极电极之厚抗蚀剂图案形成部以外之部份；和上述无抗蚀剂区域形成部，其形成在包含有与通道部对应之部份之其他区域；且使用在至少具有由上述厚抗蚀剂图案形成部所形成之厚抗蚀剂图案变形之步骤的薄膜电晶体基板之制造步骤中者；上述半透光部形成有半透光膜，上述遮光部形成有遮光膜，上述厚抗蚀剂图案形成部系上述源极电极和汲极电极之对向部份，至少在通道部侧空出所希望之余裕(margin)区域。 |
