发明名称 |
发光元件的元件层结构设计的评价方法及评价装置以及发光元件 |
摘要 |
本发明提供一种发光元件的元件层结构设计的评价方法及评价装置,以比目前方法短的计算时间进行来自包括层叠有含有发光层的4层以上的薄膜的结构的发光元件的射出光的评价。本发明的发光元件的元件层结构设计的评价方法,其通过信息处理装置对来自包括层叠有含有发光层的4层以上的薄膜的结构的发光元件的射出光进行评价,其中,包括:输入步骤(S01),输入表示构成发光元件的薄膜的参数、及来自发光层的发出光的光谱的信息;光谱计算步骤(S03),基于所输入的参数,生成表示仅在薄膜的层叠方向分割为网格的发光元件的信息,应用该生成的信息、及表示来自发光层的发出光的光谱的信息,利用FDTD法计算射出光的光谱;光谱信息输出步骤(S03),输出表示所计算的来自射出光的光谱的信息。 |
申请公布号 |
CN101755484B |
申请公布日期 |
2011.12.14 |
申请号 |
CN200880100046.3 |
申请日期 |
2008.06.26 |
申请人 |
住友化学株式会社 |
发明人 |
坂野文洋 |
分类号 |
H01L51/50(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/50(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
朱丹 |
主权项 |
一种发光元件的元件层结构设计的评价方法,其通过信息处理装置对来自包括层叠有含有发光层的4层以上的薄膜的结构的发光元件的射出光进行评价,其中,该评价方法包括:输入步骤,输入表示构成所述发光元件的所述薄膜的参数、及来自所述发光层的发出光的光谱的信息;光谱计算步骤,基于在所述输入步骤输入的参数,生成表示仅在所述薄膜的层叠方向分割为网格的所述发光元件的信息,应用该生成的信息、及在所述输入步骤输入的表示来自所述发光层的发出光的光谱的信息,利用FDTD法计算来自该发光元件的射出光的光谱;光谱信息输出步骤,输出表示在所述光谱计算步骤计算的来自所述发光元件的射出光的光谱的信息。 |
地址 |
日本国东京都 |