制造反射像素的方法及反射结构

摘要

本发明公开了制造具有高对比率的反射空间光调制器的方法。通过将诸如支撑柱和可动铰链之类的非反射元件布置在像素的反射表面后面，可以增强空间光调制器器件所提供的对比度。根据一个实施例，由牺牲层中的间隙所限定的反射材料的一体的肋将反射表面悬挂在下层的包含铰链的层之上。根据可替换的实施例，由在诸如氧化物之类的介入层中形成的间隙将反射表面与下层铰链分离。在任一实施例中，将相邻像素区域分离的壁可以在反射表面之下凹进，以进一步减少对入射光的不期望的散射并从而增强对比度。

主权项

一种用于制造反射像素的方法，该方法包括：提供硅层，所述硅层上方带有导电层，并且由下方的柱支撑在CMOS衬底上；在所述导电层上方形成第一光刻胶掩膜并对所述第一光刻胶掩膜进行图案化；在所述第一光刻胶掩膜图案化所得的间隙中刻蚀穿所述导电层和所述硅层，以限定与所述硅层中的可动铰链部分相邻的开口；剥离所述第一光刻胶掩膜；在由所述导电层上形成第二光刻胶掩膜，并在所述第二光刻胶掩膜上以及由所述第二光刻胶掩膜所限定的过孔中沉积反射材料；在所述反射材料上形成第三光刻胶掩膜，并将所述第三光刻胶掩膜图案化，以暴露像素间区域；刻蚀所述像素间区域中的所述反射材料和所述硅层以限定离散的像素；以及在同一步骤中去除所述第二光刻胶掩膜和所述第三光刻胶掩膜留下所述反射材料，所述反射材料被所述过孔的此前位置处的凸出物支撑在所述导电层和铰链之上。