发明名称 IMMERSION LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 <p>리소그래피 장치는 리소그래피 장치의 투영 시스템의 다운스트림 광학 요소와 기판 사이에 침지 액체를 공급하도록 구성된 액체 공급 시스템, 및 제 1 방향으로의 제 1 속도로부터 제 2 방향으로의 제 2 속도로 기판 테이블을 가속하는 가속 프로파일을 수행하기 위해 기판 테이블을 구동하도록 배치되는 제어 시스템을 포함한다. 가속 프로파일은 시간에 있어서 비대칭이고, 가속 프로파일에 따라 기판 테이블이 가속되는 경우에 침지 액체의 메니스커스를 깨뜨리는 힘이 침지 액체의 메니스커스를 유지하는 힘보다 낮도록 치수화된다.</p>
申请公布号 KR101077047(B1) 申请公布日期 2011.10.26
申请号 KR20080130149 申请日期 2008.12.19
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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