发明名称 High performance 1T-DRAM cell device and manufacturing method thereof
摘要 <p>본 발명에 의하여 MOS 기반의 DRAM 셀 소자의 축소화 특성과 성능이 개선되고 메모리 용량이 증가하게 된다.</p>
申请公布号 KR101073643(B1) 申请公布日期 2011.10.14
申请号 KR20090013849 申请日期 2009.02.19
申请人 发明人
分类号 B82Y40/00;H01L21/336 主分类号 B82Y40/00
代理机构 代理人
主权项
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