发明名称 |
表面带有Hf-Si-N梯度涂层的医用镁合金及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供的是一种带有表面Hf-Si-N梯度涂层的医用镁合金的制备方法。(1)对镁合金基材进行前处理;(2)在前处理后的镁合金基材表面利用离子束辅助气相沉积制备一层致密Mg薄膜;(3)在制备好的Mg薄膜表面利用离子束辅助气相沉积制备Mg-Hf梯度涂层;(4)在制备好的Mg-Hf梯度涂层表面利用离子束辅助气相沉积制备Hf-N梯度涂层;(5)在制备好的Hf-N梯度涂层表面利用离子束辅助气相沉积制备Hf-Si-N梯度涂层。本发明选用的镁合金是目前正在广泛研究的潜在的生物医用材料,通过离子束辅助气相沉积(IBAD)方法在医用镁合金表面制备Hf-Si-N薄膜,以提高其耐腐蚀、耐磨损性能,并进一步提高其生物相容性。 |
申请公布号 |
CN102191481A |
申请公布日期 |
2011.09.21 |
申请号 |
CN201110090572.X |
申请日期 |
2011.04.12 |
申请人 |
哈尔滨工程大学 |
发明人 |
金国;崔秀芳;李莉;郝金龙;王忠禹 |
分类号 |
C23C16/44(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I;C23C16/06(2006.01)I;C23C16/22(2006.01)I;C23C16/24(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种表面带有Hf‑Si‑N梯度涂层的医用镁合金包括医用镁合金基材,在医用镁合金基材表面有利用离子束辅助气相沉积的方法制备的Hf‑Si‑N梯度涂层,所述Hf‑Si‑N梯度涂层的总厚度小于1μm。 |
地址 |
150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区南通大街145号哈尔滨工程大学科技处知识产权办公室 |