发明名称 一种III族氮化物发光二极管及其制作方法
摘要 本发明公开了一种III族氮化物发光二极管及其制作方法,发光二极管包括衬底(1)以及层叠于衬底上的半导体外延叠层,该半导体外延叠层由下至上依次包括N型层(2)、发光层(3)和P型层(4),其特征在于,部分半导体外延叠层通过刻蚀,在N型层(2)中形成一N型层台面,该N型层台面上设置N型电极(7);在P型层(4)未刻蚀部分的上表面设置有P型电极(6);所述N型层(2)还包含有掺杂浓度一致的均匀掺杂层(2a)和掺杂浓度变化的调制掺杂层(2b),调制掺杂层(2b)设于均匀掺杂层(2a)和发光层(3)之间。本发明可以显著改善晶体质量和发光均匀性,提高光效,并提高了器件的可靠性,延长器件寿命。
申请公布号 CN102185062A 申请公布日期 2011.09.14
申请号 CN201110087979.7 申请日期 2011.04.08
申请人 中山大学 发明人 王钢;江灏;郑致远
分类号 H01L33/14(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/14(2010.01)I
代理机构 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人 禹小明
主权项 一种III族氮化物发光二极管,包括衬底(1)以及层叠于衬底上的半导体外延叠层,该半导体外延叠层由下至上依次包括N型层(2)、发光层(3)和P型层(4),其特征在于,部分半导体外延叠层通过刻蚀,在N型层(2)中形成一N型层台面,该N型层台面上设置N型电极(7);在P型层(4)未刻蚀部分的上表面设置有P型电极(6); 所述N型层(2)包括掺杂浓度一致的均匀掺杂层(2a)和掺杂浓度变化的调制掺杂层(2b),调制掺杂层(2b)设于均匀掺杂层(2a)和发光层(3)之间。
地址 510275 广东省广州市新港西路135号