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一种流体输送装置，用以传送一流体，其系包含：一阀体座，其系具有一出口通道及一入口通道；一阀体盖体，其系设置于该阀体座上；一阀体薄膜，其系设置于该阀体座及该阀体盖体之间；复数个暂存室，于该阀体薄膜与该阀体盖体之间形成一第一暂存室，以及于该阀体薄膜与该阀体座之间形成一第二暂存室，其中该第一暂存室及该第二暂存室系分别具有由外缘向中心方向延伸之一导流面结构；一振动装置，其周边系固设于该阀体盖体，且与该阀体盖体间定义形成周围具有一导流面结构之一压力腔室。如申请专利范围第1项所述之流体输送装置，其中该流体包括气体及液体。如申请专利范围第1项所述之流体输送装置，其中该复数个暂存室之该导流面结构系为一斜面。如申请专利范围第1项所述之流体输送装置，其中该复数个暂存室之该导流面结构系为一曲面。如申请专利范围第1项所述之流体输送装置，其中该复数个暂存室之该导流面结构系为一斜面结合曲面型态。如申请专利范围第1项所述之流体输送装置，其中该压力腔室之该导流面结构系为一斜面。如申请专利范围第1项所述之流体输送装置，其中该压力腔室之该导流面结构系为一曲面。如申请专利范围第1项所述之流体输送装置，其中该出口通道之管径系大于该入口通道。 |
