| 发明名称 | 晶片清洗漏斗 | ||
| 摘要 | 1.本外观设计名称为晶片清洗漏斗，主要用于晶片清洗。2.本外观设计主要设计要点为立体图的图案部分。3.本外观设计产品的立体图最能表明设计要点。4.后视图、左视图、右视图与主视图相同，省略后视图、左视图、右视图。 | ||
| 申请公布号 | CN301645736S | 申请公布日期 | 2011.08.17 |
| 申请号 | CN201030607502.3 | 申请日期 | 2010.11.11 |
| 申请人 | 河南鸿昌电子有限公司 | 发明人 | 陈建民;陈建卫;陈磊;陈燕青 |
| 分类号 | 08-05 | 主分类号 | 08-05 |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | |||
| 地址 | 461500 河南省长葛市工业聚集区魏武路河南鸿昌电子有限公司 | ||