Verfahren und System für die Fotolithografie

摘要

Verfahren zum Verbessern der Maßgenauigkeit in einem fotolithografischen System, umfassend die folgenden Schritte: – Bereitstellen einer Layoutstruktur (40) mit mehreren Strukturelementen (44) mit jeweils einer durch einen Nennwert (42) beschriebenen charakteristischen Strukturmerkmalsgröße; – Bereitstellen einer Fotomaske (10) mit einer Maskenstruktur (12) entsprechend der Layoutstruktur (40); – Bereitstellen einer fotolithografischen Vorrichtung (5) mit einer Lichtquelle (14), die in der Lage ist, die Fotomaske (10) aufzunehmen; – Projizieren der Maskenstruktur (12) auf eine Fotolackschicht (20) auf einer Oberfläche (24) eines Substrats (22) unter Verwendung der fotolithografischen Vorrichtung (5); – Ausbilden einer Lackstruktur (20) mit mehreren Strukturelemente (54) entsprechend der Layoutstruktur (40), wobei jedes der Strukturelemente (54) mindestens eine charakteristische Strukturmerkmalsgröße (50) aufweist; – Bestimmen von Schwankungen der mindestens einen charakteristischen Strukturmerkmalsgröße (50) der Strukturelemente (54) der Lackstruktur (20) im Vergleich zu den Nennwerten (42) der Strukturelemente der Layoutstruktur (40); – Aufteilen der Schwankungen der mindestens...