发明名称 记录媒体,记录装置及记录方法
摘要
申请公布号 TWI345778 申请公布日期 2011.07.21
申请号 TW095100842 申请日期 2006.01.10
申请人 先锋公司 发明人 大森久圣;加藤正浩;川野英作;三浦雅浩;钟江彻
分类号 G11B7/007;G11B7/0045 主分类号 G11B7/007
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项 一种记录媒体,包含:第一记录层和第二记录层,用以将记录资讯记录于其中,以及位于该第一记录层之导入区及位于该第二记录层之导出区,用以于其中记录用来控制该记录资讯之记录与再生至少一者的控制资讯,其中该导入区的内径与该导出区的外径之间的距离系大于或等于第一预定值,该第一记录层包含其中记录有用来识别该记录媒体之识别资讯之识别区,以及该第一预定值为由该记录媒体之径向方向上0.4毫米(mm)加上容差长度所得到的数值,其中该容差长度系指,界定于该第一记录层之预定位置的位址与相关于该第二记录层之预定位置的位址间之相对位置偏移之可接受的范围,该导入区的内径与该导出区的内径系设置于相同的径向位置。如申请专利范围第1项之记录媒体,其中该导出区系大于该导入区。如申请专利范围第1项之记录媒体,其中于该记录媒体之径向方向,该导入区的内径与识别区的外径之间的距离实质上系等于186微米(μm)。如申请专利范围第1项之记录媒体,其中该识别区为NBCA(窄丛发切割区,Narrow Burst Cutting Area)。如申请专利范围第1项之记录媒体,其中该记录资讯系于一个方向记录于该第一记录层,而该记录资讯系于与该一个方向不同的另一方向记录于该第二记录层。一种记录装置,包含:第一记录元件,用来将记录资讯记录于记录媒体,该记录媒体包含:第一记录层和第二记录层,用以将该记录资讯记录于其中;第二记录元件,用来将控制资讯记录于该第一记录层和该第二记录层之各层,该控制资讯系用来控制该记录资讯之记录与再生至少一者;以及控制元件,用来控制该第二记录元件来记录该控制资讯,使得该第一记录层中记录有控制资讯之导入区部分的内径与该第二记录层中记录有控制资讯之导出区部分的外径之间的距离系大于或等于第一预定值,其中该第一记录层包含其中记录有用来识别该记录媒体之识别资讯之识别区,以及该第一预定值为由该记录媒体之径向方向上0.4毫米加上容差长度所得到的数值,其中该容差长度系指,界定于该第一记录层之预定位置的位址与相关于该第二记录层之预定位置的位址间之相对位置偏移之可接受的范围,该控制元件控制该第二记录元件来记录该控制资讯,使得该导入区部分的内径和该导出区部分的内径系位于相同的半径位置上。如申请专利范围第6项之记录装置,其中该控制元件控制该第二记录元件来记录该控制资讯,使得该导出区部分系大于该导入区部分。如申请专利范围第6项之记录装置,其中于该记录媒体之径向方向,该导入区部分的内径与识别区的外径之间的距离实质上系等于186微米。如申请专利范围第6项之记录装置,其中该识别区为NBCA(窄丛发切割区)。如申请专利范围第6项之记录装置,其中该记录资讯系于一个方向记录于该第一记录层,而该记录资讯系于与该一个方向不同的另一方向记录于该第二记录层。一种记录装置之记录方法,该记录装置包含:用来将记录资讯记录于记录媒体之第一记录元件,该记录媒体包含:第一记录层和第二记录层,用以将该记录资讯记录于其中;以及用来将控制资讯记录于该第一记录层和该第二记录层之各层之第二记录元件,该控制资讯系用来控制该记录资讯之记录与再生至少一者,该记录方法包含:第一控制程序,控制该第一记录元件与该第二记录元件中之至少一者来记录该记录资讯与该控制资讯中之至少一者;以及第二控制程序,控制该第二控制元件以记录该控制资讯,使得该第一记录层中记录有控制资讯之导入区部分的内径与该第二记录层中记录有控制资讯之导出区部分的外径之间的距离系大于或等于第一预定值,其中该第一记录层包含其中记录有用来识别该记录媒体之识别资讯之识别区,以及该第一预定值为由该记录媒体之径向方向上0.4毫米加上容差长度所得到的数值,其中该容差长度系指,界定于该第一记录层之预定位置的位址与相关于该第二记录层之预定位置的位址间之相对位置偏移之可接受的范围,该控制程序控制该第二控制元件来记录该控制资讯,使得该导入区部分的内径和该导出区之内径系位于相同的半径位置上。一种记录媒体,包含:第一记录层和第二记录层,用以将记录资讯记录于其中,以及位于该第一记录层之导入区及位于该第二记录层之导出区,用以于其中记录用来控制该记录资讯之记录与再生至少一者的控制资讯,其中该导入区的内径与该导出区的外径之间的距离系大于或等于第一预定值,该导入区的外径与该导出区的外径之间的距离系大于或等于第二预定值,该第二预定值系为容差长度与间隙长度之和,其中该容差长度系指,界定于该第一记录层之预定位置的位址与相关于该第二记录层之预定位置的位址间之相对位置偏移之可接受的范围,以及该间隙长度系指,于用来将记录资讯记录于该记录媒体上的雷射光系聚焦于该第二记录层之情况下的雷射光于该第一记录层上的点半径与该第一记录层和第二记录层之相对偏心位移之和,该导入区的内径与该导出区的内径系设置于相同的径向位置。如申请专利范围第12项之记录媒体,其中该导出区系大于该导入区。如申请专利范围第12项之记录媒体,其中于该记录媒体之径向方向,该导入区的外径与该导出区的外径之间的距离实质上系等于105微米。如申请专利范围第12项之记录媒体,其中该记录资讯系于一个方向记录于该第一记录层,而该记录资讯系于与该一个方向不同的另一方向记录于该第二记录层。一种记录装置,包含:第一记录元件,用来将记录资讯记录于记录媒体,该记录媒体包含:第一记录层和第二记录层,用以将该记录资讯记录于其中;第二记录元件,用来将控制资讯记录于该第一记录层和该第二记录层之各层,该控制资讯系用来控制该记录资讯之记录与再生至少一者;以及控制元件,用来控制该第二记录元件来记录该控制资讯,使得该第一记录层中记录有控制资讯之导入区部分的内径与该第二记录层中记录有控制资讯之导出区部分的外径之间的距离系大于或等于第一预定值,其中该控制元件控制该第二记录元件来记录该控制资讯,使得该导入区部分的外径与该导出区部分的外径之间的距离系大于或等于第二预定值,该第二预定值系为容差长度与间隙长度之和,其中该容差长度系指,界定于该第一记录层之预定位置的位址与相关于该第二记录层之预定位置的位址间之相对位置偏移之可接受的范围,以及该间隙长度系指,于用来将记录资讯记录于该记录媒体上的雷射光系聚焦于该第二记录层之情况下的雷射光于该第一记录层上的点半径与该第一记录层和第二记录层之相对偏心位移之和,该控制元件控制该第二记录元件来记录该控制资讯,使得该导入区部分的内径和该导出区部分的内径系位于相同的半径位置。如申请专利范围第16项之记录装置,其中该控制元件控制该第二记录元件来记录该控制资讯,使得该导出区部分系大于该导入区部分。如申请专利范围第16项之记录装置,其中于该记录媒体之径向方向,该导入区部分的外径与该导出区部分的外径之间的距离实质上系等于105微米。如申请专利范围第16项之记录装置,其中该记录资讯系于一个方向记录于该第一记录层,而该记录资讯系于与该一个方向不同的另一方向记录于该第二记录层。一种记录装置之记录方法,该记录装置包含:用来将记录资讯记录于记录媒体之第一记录元件,该记录媒体包含:第一记录层和第二记录层,用以将该记录资讯记录于其中;以及用来将控制资讯记录于该第一记录层和该第二记录层之各层之第二记录元件,该控制资讯系用来控制该记录资讯之记录与再生至少一者,该记录方法包含:第一控制程序,控制该第一记录元件与该第二记录元件中之至少一者来记录该记录资讯与该控制资讯中之至少一者;以及第二控制程序,控制该第二控制元件以记录该控制资讯,使得该第一记录层中记录有控制资讯之导入区部分的内径与该第二记录层中记录有控制资讯之导出区部分的外径之间的距离系大于或等于第一预定值,其中该第二控制程序控制该第二记录元件来记录该控制资讯,使得该导入区部分的外径与该导出区部分的外径之间的距离系大于或等于第二预定值,该第二预定值系为容差长度与间隙长度之和,其中该容差长度系指,界定于该第一记录层之预定位置的位址与相关于该第二记录层之预定位置的位址间之相对位置偏移之可接受的范围,以及该间隙长度系指,于用来将记录资讯记录于该记录媒体上的雷射光系聚焦于该第二记录层之情况下的雷射光于该第一记录层上的点半径与该第一记录层和第二记录层之相对偏心位移之和。
地址 日本