发明名称 Multi chamber plasma process system
摘要
申请公布号 EP1744345(B1) 申请公布日期 2011.06.15
申请号 EP20050254638 申请日期 2005.07.26
申请人 GEN CO., LTD. 发明人 WI, SOON-IM
分类号 H01J37/32 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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