| 主权项 |
一种包括聚乙烯组成物之膜，该聚乙烯组成物的密度介于0.940与0.970 g/cm3，而且I21值自4至20 dg/min；其特征系该聚乙烯组成物系在符合下列关系式之熔融温度Tm下挤出：Tm≦235-3.3(I21)其中该聚乙烯组成物系于自1至1.5 lbs/hr/rpm之单位产出挤出；而且其中形成膜之聚乙烯组成物的凝胶总数小于100。如申请专利范围第1项之膜，其中该聚乙烯组成物包括重量平均分子量大于50,000 amu之高分子量组份与重量平均分子量低于50,000 amu之低分子量组份；该聚乙烯组成物的Mw/Mn值大于35。如申请专利范围第2项之膜，其中该聚乙烯组成物包括重量平均分子量大于50,000 amu之高分子量组份与重量平均分子量低于40,000 amu之低分子量组份。如申请专利范围第1项之膜，其中该聚乙烯组成物之Mw/Mn值大于35。如申请专利范围第1或2项之膜，其中该聚乙烯组成物之弹性大于0.60。如申请专利范围第1或2项之膜，其中该聚乙烯组成物无硬质污染物。如申请专利范围第1或2项之膜，其中该膜系以下列步骤制得，此等步骤包括：(a)首先形成聚乙烯组成物，其包括藉由使乙烯与C3至C12α烯烃、烷基铝与双金属触媒组成物接触，将高分子量聚合物混入低分子量聚合物中；然后(b)挤出该聚乙烯组成物形成丸粒状，同时选择性添加氧，以形成聚乙烯组成物之丸粒；(c)分离聚乙烯组成物丸粒；(d)在一挤出器中挤出聚乙烯组成物丸粒，以形成膜。如申请专利范围第7项之膜，其中于步骤(b)将0.01至14 SCFM之氧添加该聚乙烯组成物中。如申请专利范围第1或2项之膜，其中该聚乙烯组成物系以单一连续气相反应器法制得。如申请专利范围第1或2项之膜，其中该膜之凝胶总数少于50。如申请专利范围第1或2项之膜，其中以GPC测量，相对于整体聚乙烯组成物，该高分子量组份之重量百分比大于50重量%。如申请专利范围第1或2项之膜，其中该聚乙烯组成物系使用低于最大马达负载80%之马达负载挤出。 |
