反射式光学膜之制造方法和反射式偏光膜及其制造方法

主权项

一种反射式光学膜之制造方法，包括：提供一基材；以涂布方式在该基材的至少一侧形成一补偿膜；以及以涂布方式在该补偿膜上形成一胆固醇液晶层。如申请专利范围第1项所述之反射式光学膜之制造方法，其中涂布方式是选自旋转涂布法(Spin Coating)、狭缝模具式涂布法(Slot－die Coating)、挤压式模具涂布法(Extrusion Coating)、绕线棒涂布法(Mayer Rod Coating)与刮刀涂布法其中一种方法。如申请专利范围第2项所述之反射式光学膜之制造方法，其中涂布方式包括卷轴连续式(Roll to Roll)制程。如申请专利范围第1项所述之反射式光学膜之制造方法，其中该基材为透光基材或不透光基材。如申请专利范围第1项所述之反射式光学膜之制造方法，其中该补偿膜包括λ/4膜。如申请专利范围第1项所述之反射式光学膜之制造方法，其中该补偿膜与该胆固醇液晶层可于一显示单元(cell)内或外制作。一种反射式偏光膜，包括：一旋转层，其是由厚度小于1μm的超薄胆固醇液晶构成；一补偿膜，位于该旋转层上；一偏光膜，位于该旋转层下；一胆固醇液晶层，在该补偿膜上；以及一基材，位于该补偿膜与该旋转层之间或位于该偏光膜下。如申请专利范围第7项所述之反射式光学膜，其中该基材为透光基材或不透光基材。如申请专利范围第7项所述之反射式光学膜，其中该基材包括一面板玻璃。如申请专利范围第7项所述之反射式光学膜，其中该基材更包括一薄膜电晶体。如申请专利范围第7项所述之反射式光学膜，其中该基材更包括一彩色滤光片。如申请专利范围第7项所述之反射式光学膜，其中该基材更包括一配向层。如申请专利范围第7项所述之反射式光学膜，其中该补偿膜包括λ/4膜。一种申请专利范围第7项所述之反射式偏光膜之制造方法，其特征在于：以涂布方式在基材上形成旋转层、偏光膜、补偿膜与胆固醇液晶层；以及该补偿膜比该胆固醇液晶层先形成。如申请专利范围第14项所述之反射式偏光膜之制造方法，其中该涂布方式是选自旋转涂布法、狭缝模具式涂布法、挤压式模具涂布法、绕线棒涂布法与刮刀涂布法其中至少一种方法。如申请专利范围第15项所述之反射式偏光膜之制造方法，其中该涂布方式包括卷轴连续式制程。如申请专利范围第14项所述之反射式光学膜之制造方法，其中该旋转层与该偏光膜可于一显示单元(cell)内或外制作。如申请专利范围第14项所述之反射式光学膜之制造方法，其中该补偿膜与该胆固醇液晶层可于一显示单元内或外制作。如申请专利范围第14项所述之反射式偏光膜之制造方法，其中该基材为透光基材或不透光基材。如申请专利范围第14项所述之反射式偏光膜之制造方法，其中该补偿膜包括λ/4膜。