Verfahren zur Herstellung von Halbleiterschichten

摘要

Ein Verfahren zum Herstellen von Halbleiterschichten in einer Beschichtungskammer (1) umfasst die Schritte: A) Auf ein Substrat (2) werden zumindest ein erstes Halbleitermaterial (3) und ein zweites Halbleitermaterial (4) aufgebracht, wobei das erste und zweite Halbleitermaterial (3, 4) unterschiedliche Zusammensetzungen aufweisen und das zweite Halbleitermaterial (4) auf dem ersten Halbleitermaterial (3) aufgebracht wird; und B) Nach dem Aufbringen des ersten und zweiten Halbleitermaterials (3, 4) wird das Substrat (2) aus der Beschichtungskammer (1) entfernt und Innenoberflächen (11) der Beschichtungskammer (1) werden vom zweiten Halbleitermaterial (4') mittels eines ersten Reinigungsverfahrens (5) gereinigt, wobei erstes Halbleitermaterial (3') auf den Innenoberflächen (11) verbleibt.