发明名称 蚀刻设备的反应槽装置的上电极
摘要 一种蚀刻设备的反应槽装置的上电极,包含一个电极板,及多个嵌装固定于电极板中的陶瓷管。该电极板包括一个电极本体,该电极本体底面穿设有多个气孔,陶瓷管与气孔连通地分别同轴塞装固定于气孔中。通过在该电极本体的气孔中分别塞装陶瓷管的结构设计,可利用陶瓷管具有良好耐腐蚀性,不易被腐蚀产生扩孔的特点,使腐蚀性气体的进气量维持在预定范围内,进而可将蚀刻品质长期维持在一定水准以上,并减少上电极维修频率。
申请公布号 CN201817398U 申请公布日期 2011.05.04
申请号 CN201020569632.7 申请日期 2010.10.21
申请人 汉泰科技股份有限公司 发明人 周峙丞;张国钦
分类号 C03C15/00(2006.01)I 主分类号 C03C15/00(2006.01)I
代理机构 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 代理人 张雅军;顾以中
主权项 一种蚀刻设备的反应槽装置的上电极,包含一个电极板,该电极板包括一个底面穿设有多个气孔的电极本体,其特征在于:该上电极还包含多个与气孔连通地分别同轴塞装固定于气孔中的陶瓷管。
地址 中国台湾台南县