发明名称 |
固体电解电容器及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种抑制短路发生的固体电解电容器。本发明的固体电解电容器(100)具备:在表面形成电介质被膜(12)的阳极体(11)、和在电介质被膜(12)上形成的导电性高分子层(13)。导电性高分子层(13)至少具备:形成于电介质被膜(12)上的第一导电性高分子层(13A)、和形成于该第一导电性高分子层(13A)上的第二导电性高分子层(13B)。第一导电性高分子层(13A)中的硅烷化合物的浓度和第二导电性高分子层(13B)中的硅烷化合物的浓度不同。本发明还提供该固体电解电容器的制造方法。 |
申请公布号 |
CN102005313A |
申请公布日期 |
2011.04.06 |
申请号 |
CN201010268006.9 |
申请日期 |
2010.08.27 |
申请人 |
三洋电机株式会社;佐贺三洋工业株式会社 |
发明人 |
山口伸幸;福地耕二;常住康宏 |
分类号 |
H01G9/15(2006.01)I;H01G9/025(2006.01)I;H01G9/028(2006.01)I |
主分类号 |
H01G9/15(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
刘建 |
主权项 |
一种固体电解电容器,其具备:在表面形成有电介质被膜(12)的阳极体(11)、和在所述电介质被膜(12)上形成的导电性高分子层(13),其中,所述导电性高分子层(13)至少具备:在所述电介质被膜(12)上形成的第一导电性高分子层(13A)、和在该第一导电性高分子层(13A)上形成的第二导电性高分子层(13B);所述第一导电性高分子层(13A)及所述第二导电性高分子层(13B)含有硅烷化合物;所述第一导电性高分子层(13A)中硅烷化合物的浓度和所述第二导电性高分子层(13B)中硅烷化合物的浓度不同。 |
地址 |
日本国大阪府 |