发明名称 固体电解电容器及其制造方法
摘要 本发明提供一种抑制短路发生的固体电解电容器。本发明的固体电解电容器(100)具备:在表面形成电介质被膜(12)的阳极体(11)、和在电介质被膜(12)上形成的导电性高分子层(13)。导电性高分子层(13)至少具备:形成于电介质被膜(12)上的第一导电性高分子层(13A)、和形成于该第一导电性高分子层(13A)上的第二导电性高分子层(13B)。第一导电性高分子层(13A)中的硅烷化合物的浓度和第二导电性高分子层(13B)中的硅烷化合物的浓度不同。本发明还提供该固体电解电容器的制造方法。
申请公布号 CN102005313A 申请公布日期 2011.04.06
申请号 CN201010268006.9 申请日期 2010.08.27
申请人 三洋电机株式会社;佐贺三洋工业株式会社 发明人 山口伸幸;福地耕二;常住康宏
分类号 H01G9/15(2006.01)I;H01G9/025(2006.01)I;H01G9/028(2006.01)I 主分类号 H01G9/15(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 刘建
主权项 一种固体电解电容器,其具备:在表面形成有电介质被膜(12)的阳极体(11)、和在所述电介质被膜(12)上形成的导电性高分子层(13),其中,所述导电性高分子层(13)至少具备:在所述电介质被膜(12)上形成的第一导电性高分子层(13A)、和在该第一导电性高分子层(13A)上形成的第二导电性高分子层(13B);所述第一导电性高分子层(13A)及所述第二导电性高分子层(13B)含有硅烷化合物;所述第一导电性高分子层(13A)中硅烷化合物的浓度和所述第二导电性高分子层(13B)中硅烷化合物的浓度不同。
地址 日本国大阪府