发明名称 Verfahren zum Galvanisieren und zur Passivierung
摘要 Um ein Galvanisierungsverfahren bereitzustellen, mit dem leitfähige Gegenstände einfach und kostengünstig galvanisch beschichtet und gleichzeitig passiviert werden können, wird vorgeschlagen, dass ein Substrat in ein Galvanisierbad getaucht wird, das Ionen mindestens eines Metalls zur elektrochemischen Abscheidung auf der Substratoberfläche, Ionen mindestens eines Übergangsmetalles und ein Lösemittel aufweist, wobei das Substrat die Kathode einer elektrochemischen Zelle bildet, und dass an der elektrochemischen Zelle eine Spannung angelegt wird, wodurch ein Stromfluss erfolgt, der zur Abscheidung zumindest des mindestens einen Metalls auf der Substratoberfläche führt, dass nach Abscheidung des mindestens einen Metalls der Stromfluss unterbrochen wird, und anschließend an der Kathode ein Potential erzeugt wird und/oder eine zusätzliche Elektrode aus dem Material des Substrates, die mit dem Substrat leitend verbunden sein kann, in das Galvanisierbad getaucht wird, und für einen Zeitraum beibehalten wird bzw. eingetaucht bleibt.
申请公布号 DE102009044982(A1) 申请公布日期 2011.03.31
申请号 DE200910044982 申请日期 2009.09.24
申请人 DAMERON, STEFAN 发明人 DAMERON, STEFAN
分类号 C25D3/02 主分类号 C25D3/02
代理机构 代理人
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