| 发明名称 |
THERMAL GRADIENT ENHANCED CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION (TGE-CVD) |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20110025185(A) |
申请公布日期 |
2011.03.09 |
| 申请号 |
KR20107029284 |
申请日期 |
2009.05.27 |
| 申请人 |
AIXTRON AG |
发明人 |
TEO KENNETH;RUPESINGHE NALIN |
| 分类号 |
C23C16/455;C23C16/44;C23C16/452;C23C16/458 |
主分类号 |
C23C16/455 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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