用于形成有机绝缘膜的光敏树脂组合物和使用该组合物的设备

摘要

公开了一种光敏树脂组合物。该组合物含有[A]碱溶性树脂、[B]光活性化合物和[C]溶剂。所述的碱溶性树脂为含有至少一个具有氮丙啶基团的结构单元的共聚物。所述组合物具有优异的储存稳定性、高敏感性、高UV透射性、高残留膜比、改善的涂布均一性和优异的图案形成性能。还公开了用所述组合物形成的有机绝缘膜。该有机绝缘膜对溶剂和化学物质具有优异的耐受性。

主权项

1.一种光敏树脂组合物，该光敏树脂组合物含有：[A]碱溶性树脂；[B]光活性化合物；和[C]溶剂，其中，所述碱溶性树脂[A]为(a)至少一个含有氮丙啶基团的不饱和化合物，(b)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或它们的混合物，与(c)不饱和烯属化合物的共聚物；所述碱溶性树脂为含有由选自式1至6表示的含有氮丙啶基团的不饱和化合物中的至少一种化合物所衍生的结构单元的共聚物：其中R₁、R₂和R₃独立地为氢原子、C₁-C₁₀的烷基、C₁-C₁₀的烷氧基、苯基或苄基；其中R₁、R₂和R₃独立地为氢原子、C₁-C₁₅的烷基、C₁-C₁₅的烷氧基、苯基或苄基；其中R₁、R₂、R₃、R₄、R₅和R₆独立地为氢原子、C₁-C₁₅的烷基、C₁-C₁₅的烷氧基、苯基或苄基；其中R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆和R₇独立地为氢原子、C₁-C₁₅的烷基、C₁-C₁₅的烷氧基、苯基或苄基；其中R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆和R₇独立地为氢原子、C₁-C₁₅的烷基、C₁-C₁₅的烷氧基、苯基或苄基；和其中R₁、R₂、R₃、R₄、R₅和R₆独立地为氢原子、C₁-C₁₀的烷基、C₁-C₁₀的烷氧基、苯基或苄基；以聚苯乙烯为基准，所述碱溶性树脂的重均分子量M_w为3000-25000；所述碱溶性树脂含有5-70重量％的衍生自(a)含有氮丙啶基团的不饱和化合物的结构单元，30-80重量％的衍生自(b)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或它们的混合物的结构单元，以及10-60重量％的衍生自(c)不饱和烯属化合物的结构单元，所述(a)、(b)和(c)的总和为100重量％；以100重量份的碱溶性树脂[A]为基准，所述光活性化合物[B]的含量为5-80重量份。