| 发明名称 | 聚异氰酸制造装置及气体处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种能够一边从副产的氯化氢稳定地制造氯，一边能够稳定地使碳酰氯与多胺反应，并且能有效地处理副产的氯化氢气体的聚异氰酸酯制造装置。氯化氢气体控制部(32)控制流量控制阀(23)，使从氯化氢精制塔(4)通过第二氯化氢气体连接管(11)向氯化氢氧化槽(6)供给的氯化氢的供给量保持一定的同时，氯化氢气体控制部(32)根据从压力传感器(25)输入的氯化氢精制塔(4)内的压力，控制压力控制阀(22)，将氯化氢气体从氯化氢精制塔(4)通过第一氯化氢气体连接管(10)向氯化氢吸收塔(5)排出，从而使氯化氢精制塔(4)内的压力保持一定。 | ||
| 申请公布号 | CN101151243B | 申请公布日期 | 2011.01.26 |
| 申请号 | CN200680010545.4 | 申请日期 | 2006.03.17 |
| 申请人 | 三井化学株式会社 | 发明人 | 佐佐木佑明;高桥宏典;前场功之;内藤隆夫;寺田晃一郎;山口贵史;佐伯卓哉 |
| 分类号 | C07C263/10(2006.01)I;C07C263/18(2006.01)I;C01B7/04(2006.01)I;C07C265/14(2006.01)I;C01B7/07(2006.01)I | 主分类号 | C07C263/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 钟晶 |
| 主权项 | 一种气体处理装置，用于使气体与处理液接触以处理气体，其特征在于，具备：使气体和处理液进行气液接触的气液接触室，配置在上述气液接触室的上方并贮存处理液的贮存室，通过重力落下用于向上述气液接触室供给上述贮存室内的处理液的处理液供给单元；上述气液接触室、上述贮存室和上述处理液供给单元被设置于处理槽，在上述处理槽，设置有：在上下方向上隔开处理槽内的填充物支撑板、在填充物支撑板的上侧设置的贮存室底板，上述气液接触室作为上述填充物支撑板和上述贮存室底板之间的上述处理槽的内部空间划分而成，上述贮存室，作为贮存室底板上方的上述贮存室的内部空间划分而成。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||