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一种薄片状电浆产生装置，是属于使自电浆枪藉由收敛线圈拉出的电浆束，延伸于对该电浆束之前进方向呈正交之方向，通过由相向而互相平行被配置成为一对之永久磁石所构成的薄片化磁石形成的磁场之中，而薄片状予以变形的薄片状电浆产生装置，其特征为：上述薄片化磁石至少包含一个对应于电浆束之中心侧之部份的排斥磁场强度，较对应于电浆束之外缘侧之部份的排斥磁场强度更强的薄片化磁石。如申请专利范围第1项所记载之薄片状电浆产生装置，其中，对应于电浆束之中心侧之部份的排斥磁场强度，比对应于电浆束之外缘侧之部份的排斥磁场强度更强的薄片化磁石，在相对于电浆束呈正交之方向上被多数分割。如申请专利范围第2项所记载之薄片状电浆产生装置，其中，被多数分割之薄片化磁石，是对应于电浆束之中心侧之部份的永久磁石，较对应于电浆束之外缘侧之部份的永久磁石，接近电浆束而被配置，在对应于上述中心侧之部份互相相向之永久磁石彼此之间隔，较在对应于上述外缘侧之部份互相相向之永久磁石彼此之间隔更窄。如申请专利范围第2项所记载之薄片状电浆产生装置，其中，被多数分割之薄片化磁石，是对应于电浆束之中心侧之部份的永久磁石的残留磁束密度，较对应于电浆束之外缘侧之部份的永久磁石的残留磁束密度大，在对应于上述中心侧之部份互相相向之永久磁石彼此所产生之排斥磁场强度，较在对应于上述外缘侧之部份互相相向之永久磁石彼此所产生之排斥磁场强度更强。一种成膜装置，其特征为：对收容在被配置于可真空排气之成膜室内之蒸发材料接盘的蒸发材料，射入在申请专利范围第1至第4项中之任一项所记载之薄片状电浆产生装置所生成之薄片状电浆而使蒸发材料予以蒸发，在上述成膜室内相对于上述蒸发材料接盘隔着一定间隔，对被配置在与上述蒸发材料接盘相向之位置上的基板予以成膜。如申请专利范围第5项所记载之成膜装置，其中，被成膜之基板是与上述蒸发材料接盘并行在上述成膜室内移动。一种成膜方法，其特征为：对收容在被配置于可真空排气之成膜室内之蒸发材料接盘的蒸发材料，射入在申请专利范围第1至第4项中之任一项所记载之薄片状电浆产生装置所生成之薄片状电浆而使蒸发材料予以蒸发，在上述成膜室内相对于上述蒸发材料接盘隔着一定间隔，对被配置在与上述蒸发材料接盘相向之位置上的基板予以成膜。如申请专利范围第7项所记载之成膜方法，其中，被成膜之基板是与上述蒸发材料接盘并行在上述成膜室内移动，在该移动之基板上连续性成膜。 |
