除去抗蚀剂的方法和用于它的装置

摘要

一种抗蚀剂除去装置(1)，通过该抗蚀剂除去装置(1)可在低至90℃的温度下除去基片上的抗蚀剂。抗蚀剂除去装置(1)包括腔室(2)，其中，经受抗蚀剂(17)除去的基片(16)容纳在该腔室(2)中，以便可加热，并且在比大气压力低的压力下，不饱和烃气体或氟代烃的气体连同臭氧气体供给到该腔室(2)。腔室(2)的内部压力被调节为使得基片(16)具有90℃或更低的温度。臭氧气体的例子包括从通过基于蒸汽压力的差经液化臭氧来分离臭氧然后再次汽化臭氧而从含臭氧的气体得到超高浓度臭氧气体。优选的是，为了清洗经过处理的基片(16)，将超纯水供给到该基片(16)。腔室(2)设有用于保持基片(16)的基座(15)。由发射红外光的光源(4)加热基座(2)。

主权项

一种抗蚀剂除去方法，其特征在于，在比大气压力低的压力下，将不饱和烃气体或不饱和烃的氟代产物气体连同臭氧气体供给到反应系统，在该处，基片的加热是可能的，和除去基片上的抗蚀剂。