| 主权项 |
一种透明面状体，系在透明基板的至少一方表面，具有已被图案化的透明导电膜，其特征为：具备透过率调节层，该透过率调节层系在可视区域缩小经由上述透明基板而透过形成有上述透明导电膜之图案形成区域之光的透过光谱，和经由上述透明基板而透过无形成上述透明导电膜之非图案形成区域之光的透过光谱之差。如申请专利范围第1项所记载之透明面状体，其中，上述透过率调节层具有以大致均匀的厚度覆盖上述透明基板之一方表面的外敷层，上述外敷层的厚度系大于上述透明导电膜的厚度，且折射率系小于上述透明导电膜的折射率。如申请专利范围第2项所记载之透明面状体，其中，上述外敷层系由矽锡氧化物所构成。如申请专利范围第3项所记载之透明面状体，其中，上述外敷层的厚度系70至80nm。如申请专利范围第2至4项中之任一项所记载之透明面状体，其中，上述透明导电膜的折射率与上述外敷层的折射率之差系0.03至0.4。如申请专利范围第2至4项中之任一项所记载之透明面状体，其中，上述透明基板和上述透明导电膜之间介存有底涂层，上述底涂层系由光折射率不同之两层以上的层积体所构成，且在低折射率层侧形成有上述透明导电膜。如申请专利范围第1项所记载之透明面状体，其中，上述透过率调节层系具备：由包含低折射率层、和光折射率高于该低折射率层之高折射率层的层积体所构成的底涂层，上述底涂层系以在上述低折射率层侧形成上述透明导电膜的方式，介存于上述透明基板和上述透明导电膜之间，上述高折射率层的厚度系小于上述低折射率层的厚度。如申请专利范围第7项所记载之透明面状体，其中，上述高折射率层的厚度为10至25nm，上述低折射率层的厚度为25至45nm。如申请专利范围第8项所记载之透明面状体，其中，上述高折射率层系由矽锡氧化物所构成，上述低折射率层系由氧化矽所构成。如申请专利范围第7至9项中之任一项所记载之透明面状体，其中，上述透明导电膜的厚度系10至25nm。如申请专利范围第1项所记载之透明面状体，其中，上述透过率调节层具有：用以被覆上述透明基板之一方表面无被形成之上述透明导电膜之露出部的被覆层，上述被覆层系以其表面与上述导电膜的表面略平顶的方式来形成，且其折射率系与上述透明导电膜的折射率相等。如申请专利范围第11项所记载之透明面状体，其中，上述被覆层系由矽锡氧化物所构成。如申请专利范围第11项所记载之透明面状体，其中，上述透明导电膜系由奈米碳管复合材所构成。如申请专利范围第11至13项中之任一项所记载之透明面状体，其中，又具备：由包含低折射率层、和光折射率高于该低折射率层之高折射率层的层积体所构成的底涂层，上述底涂层系以在上述低折射率层侧形成上述透明导电膜及上述被覆层的方式，介设于上述透明导电膜及上述被覆层、与上述透明基板之间。如申请专利范围第11至13项中之任一项所记载之透明面状体，其中，又具备：用以覆盖上述透明导电膜及被覆层之表面的外敷层，且上述外敷层的表面系形成平坦。如申请专利范围第1项所记载之透明面状体，其中，上述透明导电膜具备隔着间隔而复数配置的带状透明导电部，且上述透过率调节层系具备在邻接之上述各带状透明导电部之间，隔着绝缘缝隙而配置的带状透明调整部，上述带状透明调整部系与上述带状透明导电部由相同的材料所构成，同时具有复数的电阻缝隙。如申请专利范围第16项所记载之透明面状体，其中，上述复数的电阻缝隙系被构成连接与上述各带状透明调整部邻接之上述绝缘缝隙彼此。如申请专利范围第16或17项所记载之透明面状体，其中，又具备：沿着上述绝缘缝隙，将上述各带状透明调整部加以分离的分离缝隙。一种静电电容式之透明触控开关，其特征为：具备复数如申请专利范围第16至18项中之任一项所记载之透明面状体，且上述各透明面状体系经由黏接层黏贴。如申请专利范围第19项所记载之静电电容式之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板。如申请专利范围第19项之静电电容式之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板与λ/4相位差板，同时在背面侧具备λ/4相位差板。如申请专利范围第20项之静电电容式之透明触控开关，其中，上述透明基板系λ/4相位差板。一种电阻膜式之透明触控开关，其特征为：具备复数如申请专利范围第16至18项中之任一项所记载之透明面状体，且上述各透明面状体系以上述带状透明导电体互相相对的方式，经由间隔物隔着特定间隔而配置。如申请专利范围第23项所记载之电阻膜式之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板。如申请专利范围第23项之电阻膜式之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板与λ/4相位差板，同时在背面侧具备λ/4相位差板。如申请专利范围第24项之电阻膜式之透明触控开关，其中，上述透明基板系λ/4相位差板。一种透明触控开关，系具备复数如申请专利范围第2至6项中之任一项所记载之透明面状体，且上述各透明面状体系经由黏接层黏贴的静电电容式之透明触控开关，其特征为：上述黏接层的折射率系小于上述透明导电膜的折射率。如申请专利范围第27项所记载之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板。如申请专利范围第27项所记载之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板与λ/4相位差板，同时在背面侧具备λ/4相位差板。如申请专利范围第28项所记载之透明触控开关，其中，上述透明基板系λ/4相位差板。一种静电电容式之透明触控开关，其特征为：具备复数如申请专利范围第7至10项中之任一项所记载之透明面状体，且上述各透明面状体系经由黏接层黏贴。一种静电电容式透明触控开关，系具备复数如申请专利范围第7至10项中之任一项所记载之透明面状体，其特征为：上述各透明面状体系以上述透明导电膜彼此相对的方式配置，且经由黏接层黏贴，上述透明导电膜的厚度系20nm至25nm，上述黏接层的折射率系1.6以上。一种静电电容式之透明触控开关，系具备复数如申请专利范围第7至10项中之任一项所记载之透明面状体，其特征为：上述各透明面状体系以上述透明导电膜彼此相对的方式配置，且经由黏接层黏贴，上述透明导电膜的厚度系25nm至30nm，上述黏接层的折射率系1.7以上。如申请专利范围第31至33项中之任一项所记载之静电电容式之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板。如申请专利范围第31至33项中之任一项所记载之静电电容式之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板与λ/4相位差板，同时在背面侧具备λ/4相位差板。如申请专利范围第34项所记载之静电电容式之透明触控开关，其中，上述透明基板系λ/4相位差板。一种静电电容式之透明触控开关，其特征为：具备复数如申请专利范围第11至15项中之任一项所记载之透明面状体，且上述各透明面状体系经由黏接层黏贴。如申请专利范围第37项所记载之静电电容式之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板。如申请专利范围第37项所记载之静电电容式之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板与λ/4相位差板，同时在背面侧具备λ/4相位差板。如申请专利范围第38项所记载之静电电容式之透明触控开关，其中，上述透明基板系λ/4相位差板。一种电阻膜式之透明触控开关，其特征为：具备复数如申请专利范围第11至15项中之任一项所记载之透明面状体，且上述各透明面状体系以上述透明导电膜互相相对的方式，经由间隔物隔着预定间隔而配置。如申请专利范围第41项所记载之电阻膜式之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板。如申请专利范围第41项所记载之电阻膜式之透明触控开关，其中，在表面侧具备直线偏光板与λ/4相位差板，同时在背面侧具备λ/4相位差板。如申请专利范围第42项所记载之透明触控开关，其中，上述透明基板系λ/4相位差板。 |
