发明名称 Semiconductor device and method for fabricating the same
摘要 A trench isolation surrounding the lateral sides of an active region of a P-channel MIS transistor PTr and a trench isolation surrounding the lateral sides of an active region of an N-channel MIS transistor NTr have different film qualities.
申请公布号 US7829924(B2) 申请公布日期 2010.11.09
申请号 US20060545521 申请日期 2006.10.11
申请人 PANASONIC CORPORATION 发明人 AKAMATSU SUSUMU
分类号 H01L23/58;H01L29/00 主分类号 H01L23/58
代理机构 代理人
主权项
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