| 发明名称 | 晶片处理用加热器单元 | ||
| 摘要 | 1.名称：晶片处理用加热器单元。2.用途：本产品是装配在对晶片进行等离子体处理的腔室内的用于处理晶片的加热器单元。如使用状态参考图所示，在腔室内与喷头相对地配置，该喷头作为电极与高频电源连接。3.设计要点：本外观设计的设计要点在于形状。4.指定图片：立体图。 | ||
| 申请公布号 | CN301376277S | 申请公布日期 | 2010.11.03 |
| 申请号 | CN200930389505.1 | 申请日期 | 2009.12.28 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 田中澄;小松智仁;川崎裕雄 |
| 分类号 | 23-03 | 主分类号 | 23-03 |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | |||
| 地址 | 日本东京 | ||