发明名称 |
晶体管的制造 |
摘要 |
一种例如高电子迁移率晶体管的晶体管的制造方法,每一个晶体管包括在共用衬底之上的多个外延层,该方法包括:(a)在多个外延层的第一表面上形成多个源极接点;(b)在第一表面上形成至少一个漏极接点;(c)在第一表面上形成至少一个栅极接点;(d)在栅极接点、源极接点和漏极接点之上和之间形成至少一个绝缘层;(e)在至少一个绝缘层的至少一部分上形成导电层,以连接源极接点;以及(f)在导电层之上形成至少一个热沉层。 |
申请公布号 |
CN101351887B |
申请公布日期 |
2010.11.03 |
申请号 |
CN200680039046.8 |
申请日期 |
2006.09.01 |
申请人 |
霆激技术有限公司 |
发明人 |
袁述;康学军;林世鸣 |
分类号 |
H01L27/082(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L29/737(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/082(2006.01)I |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 |
代理人 |
赵飞 |
主权项 |
一种制造晶体管的方法,每一个晶体管包括在共用衬底上的多个外延层,该方法包括:在多个外延层的第一表面上形成多个源极接点;在第一表面上形成至少一个漏极接点;在第一表面上形成至少一个栅极接点;在栅极接点、源极接点和漏极接点之上和之间形成至少一个绝缘材料层,以绝缘栅极接点、源极接点和漏极接点;在至少一个绝缘层的至少一部分上并穿过其形成导电层,用于连接源极接点;在导电层上形成至少一个籽晶层;以及电镀至少一个籽晶层,以形成至少一个热沉层。 |
地址 |
新加坡新加坡市 |