发明名称 晶体管的制造
摘要 一种例如高电子迁移率晶体管的晶体管的制造方法,每一个晶体管包括在共用衬底之上的多个外延层,该方法包括:(a)在多个外延层的第一表面上形成多个源极接点;(b)在第一表面上形成至少一个漏极接点;(c)在第一表面上形成至少一个栅极接点;(d)在栅极接点、源极接点和漏极接点之上和之间形成至少一个绝缘层;(e)在至少一个绝缘层的至少一部分上形成导电层,以连接源极接点;以及(f)在导电层之上形成至少一个热沉层。
申请公布号 CN101351887B 申请公布日期 2010.11.03
申请号 CN200680039046.8 申请日期 2006.09.01
申请人 霆激技术有限公司 发明人 袁述;康学军;林世鸣
分类号 H01L27/082(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L29/737(2006.01)I 主分类号 H01L27/082(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人 赵飞
主权项 一种制造晶体管的方法,每一个晶体管包括在共用衬底上的多个外延层,该方法包括:在多个外延层的第一表面上形成多个源极接点;在第一表面上形成至少一个漏极接点;在第一表面上形成至少一个栅极接点;在栅极接点、源极接点和漏极接点之上和之间形成至少一个绝缘材料层,以绝缘栅极接点、源极接点和漏极接点;在至少一个绝缘层的至少一部分上并穿过其形成导电层,用于连接源极接点;在导电层上形成至少一个籽晶层;以及电镀至少一个籽晶层,以形成至少一个热沉层。
地址 新加坡新加坡市