| 发明名称 | 低氧控制系统 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及半导体生产装置领域。本实用新型的一种低氧控制系统，包括依次连接的氮气输送装置、循环风机和处理腔室，其中，所述处理腔室外部还连接有循环管路和氧气分析仪，所述氧气分析仪的另一入口端与氮气输送装置连接，所述循环风机上还安装有换气阀门。本实用新型低氧控制系统，能控制相对空间(即微环境)中的氧气浓度，从而有效控制晶片的自然氧化状况。 | ||
| 申请公布号 | CN201623010U | 申请公布日期 | 2010.11.03 |
| 申请号 | CN200920291818.8 | 申请日期 | 2009.12.31 |
| 申请人 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 发明人 | 林松;赵星梅;钟华 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 胡小永 |
| 主权项 | 一种低氧控制系统，包括依次连接的氮气输送装置、循环风机和处理腔室，其特征在于，所述处理腔室外部还连接有循环管路和氧气分析仪，所述氧气分析仪的一入口端与氮气输送装置连接，所述循环风机上还安装有换气阀门。 | ||
| 地址 | 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||