等离子处理装置

摘要

本发明提供一种等离子处理装置，该等离子处理装置具有真空处理容器(34)、设于该容器内的、载置被处理体(W)的载置台(36)。处理容器(34)具有形成有上部开口的筒状容器主体(34A)、气密地安装于该主体的上部开口、由透过电磁波的电介体制的顶板(50)。该等离子处理装置还具有通过顶板向容器内供给用于产生等离子的电磁波的电磁波供给系统(54)、用于将包含处理气体的气体供给到容器内的气体供给系统(110)。在顶板(50)上形成有用于将由气体供给系统供给的气体向容器内喷出的气体喷射孔(108)。在各喷射孔(108)内配置由具有透气性的电介体制的放电防止构件(120)。

主权项

一种等离子处理装置，其特征在于，该等离子处理装置具有真空处理容器、载置台、电磁波供给系统与气体供给系统，上述真空处理容器具有形成有上部开口的筒状的容器主体以及气密地安装于该主体的上述上部开口、由可使电磁波透过的电介体制的顶板；上述载置台设于上述处理容器内，载置被处理体；上述电磁波供给系统通过上述顶板向上述处理容器内供给用于产生等离子的电磁波；上述气体供给系统向上述处理容器内供给含有处理气体的气体；在上述顶板上形成有气体喷射孔，该气体喷射孔将由上述气体供给系统供给的气体喷出到上述处理容器内，在该喷射孔内配置有放电防止构件，上述放电防止构件具有放电防止构件主体和致密构件，上述放电防止构件主体由具有透气性的电介体制成；上述致密构件覆盖上述放电防止构件主体的至少侧面，由无透气性的电介体制成。