一种化学机械抛光液

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、有机酸类化合物、核酸类化合物、氧化剂和载体。本发明的抛光液可在较低的研磨颗粒的用量下，保证抛光速率的同时，使缺陷、划伤、粘污和其它残留明显下降，从而降低衬底表面污染物；具有较高的铜的去除速率，以及较高的的铜/钽的去除速率选择比，可满足铜制程的抛光要求；可以防止金属抛光过程中产生的局部和整体腐蚀，提高产品良率。本发明的抛光液中含有可生物降解的核酸类化合物，使本发明的抛光液对环境更友好。

主权项

一种化学机械抛光液，其特征在于：其含有有机酸类化合物、核酸类化合物、研磨颗粒、氧化剂和载体。