发明名称 |
一种Ga<sub>2</sub>Te<sub>3</sub>相变记忆元件及其制备方法 |
摘要 |
一种Ga2Te3相变记忆元件及其制备方法,采用Ga2Te3薄膜为相变记忆存储材料,所述Ga2Te3薄膜在室温下为非晶态,在经过450℃退火后变成结晶态,相变记忆元件的基本构型为三层结构,由一层Ga2Te3薄膜夹在顶电极膜与底电极膜之间构筑而成,由顶电极膜和底电极膜分别接出用金丝或铜丝制成引线。本发明在测试中实现了开关效应,具有如下特性:Ga2Te3薄膜结晶态与非晶态的电阻值差异明显,可以达到3~4个数量级;相变速度/读写速度快且工作电压低,所需的电压脉冲达到了ns量级;可以在高低阻态之间进行多次循环转变。 |
申请公布号 |
CN101752498A |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
申请号 |
CN200910233902.9 |
申请日期 |
2009.10.21 |
申请人 |
南京大学 |
发明人 |
朱颢;殷江;夏奕东;刘治国 |
分类号 |
H01L45/00(2006.01)I;G11C11/56(2006.01)I |
主分类号 |
H01L45/00(2006.01)I |
代理机构 |
南京天翼专利代理有限责任公司 32112 |
代理人 |
黄明哲 |
主权项 |
一种Ga2Te3相变记忆元件,其特征是采用Ga2Te3薄膜为相变记忆存储材料,所述Ga2Te3薄膜在室温下为非晶态,在经过450℃退火后变成结晶态,相变记忆元件的基本构型为三层结构,由一层Ga2Te3薄膜(13)夹在顶电极膜(14)与底电极膜(11)之间构筑而成,由顶电极膜(14)和底电极膜(11)分别接出用金丝或铜丝制成引线;底电极膜(11)和顶电极膜(14)材料为铂Pt或金Au,厚度在100纳米至1微米之间。 |
地址 |
210093 江苏省南京市汉口路22号 |