发明名称 使用二维图建立电路布局图中限高区的方法
摘要 本发明提出一种使用二维图建立电路布局图中限高区的方法。首先,提供二维图,其中二维图包含具有多个线段的几何封闭曲线,且几何封闭曲线内有文字串。接着,撷取文字串。从文字串的参考座标出发沿第一方向搜寻线段,并将所碰到第一条线段的点纪录为几何封闭曲线的搜寻起点。以顺时钟或逆时钟的方向,从搜寻起点始,沿几何封闭曲线搜寻并纪录所有转角点,直到回到搜寻起点。使用所有转角点的座标,于电路布局图中建立限高区,以及依据文字串,设定限高区的高度参数。
申请公布号 CN101739481A 申请公布日期 2010.06.16
申请号 CN200810181630.8 申请日期 2008.11.27
申请人 英业达股份有限公司 发明人 郑永健
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 陈亮
主权项 一种使用二维图建立电路布局图中限高区的方法,包括:提供一二维图,其中该二维图包含具有多个线段的一几何封闭曲线,且该几何封闭曲线内有一文字串;撷取该文字串;从该文字串的参考座标出发沿一第一方向搜寻线段,并将所碰到第一条线段的点纪录为该几何封闭曲线的一搜寻起点;以顺时钟或逆时钟的方向,从该搜寻起点始,沿该几何封闭曲线搜寻并纪录所有转角点,直到回到该搜寻起点;使用前述转角点的座标,于一电路布局图中建立一限高区;以及依据该文字串,设定该限高区的高度参数。
地址 中国台湾台北市士林区后港街66号