发明名称 |
等离子体处理装置 |
摘要 |
本发明涉及等离子体处理装置。等离子体监测装置(100)具备测定部(101)和与该测定部(101)连接的同轴电缆(102)。同轴电缆(102)的一端被插入到处理室(2)内的等离子体生成区域内。同轴电缆(102)的前端部分为探针,该部分是芯线露出的状态。测定部(101)检测由同轴电缆(102)的探针部分检测出的等离子体中存在的电磁波的频率分布,并显示该检测出的频率分布。 |
申请公布号 |
CN101720503A |
申请公布日期 |
2010.06.02 |
申请号 |
CN200980000455.0 |
申请日期 |
2009.02.26 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
伊藤融;永关澄江 |
分类号 |
H01L21/3065(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I;H05H1/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/3065(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李伟;舒艳君 |
主权项 |
一种等离子体处理装置,其特征在于,具备:处理室,其在内部配置被处理基板;气体供给机构,其向所述处理室内供给规定的处理气体;排气机构,其从所述处理室内排气;等离子体产生机构,其在所述处理室内产生所述处理气体的等离子体;等离子体监测装置,其具备:将探针配置于所述处理室内的同轴电缆;与所述同轴电缆连接、并检测被所述探针检测出的等离子体中存在的电磁波的频率分布的测定部。 |
地址 |
日本东京都 |