涂布显影装置及涂布显影方法

摘要

于对基板涂布抗蚀剂液而形成抗蚀剂膜，并对该抗蚀剂膜表面形成液层而进行液浸曝光后之基板进行显影处理的装置中，抑制由于抗蚀剂膜变质造成晶圆间不一致。于前述装置中，设置：清洗部，将形成有抗蚀剂膜之基板的表面予以清洗；及运送机构，用以从该清洗部将基板取出并运送至用以进行浸液曝光之曝光装置；并将前述运送机构控制成：使从在前述清洗部清洗液接触基板表面之时点起至将该基板搬入曝光装置为止之时间为预先设定的设定时间，亦即从对前述基板表面供给前述清洗液之时点起的经过时间与在该基板表面之清洗液的接触角变化之关系中，设定为使设定时间成为：基板接受浸液曝光是在接触角之降低速度比起刚接触后为大幅减慢的时间带。

主权项

一种涂布显影装置，用以在基板涂布抗蚀剂液而形成抗蚀剂膜，并对浸液曝光后之基板进行显影处理，其特征在于：具备：清洗部，将形成有抗蚀剂膜之基板表面予以清洗；运送机构，从该清洗部将基板取出并运送到用以进行浸液曝光之曝光装置处；及控制部，用以控制该运送机构，以使得在该清洗部清洗液接触基板表面之时点起至该基板搬入到曝光装置为止之时间，成为预先设定的设定时间；该设定时间系依下述方式而设定之时间：于自将该清洗液供给到该基板表面之时点起的经过时间与该基板表面之清洗液接触角的关系中，在接触角之降低速度比起刚接触后大幅减小之时间带，使基板接受浸液曝光。