发明名称 |
一种半导体晶片减磨用重块 |
摘要 |
本实用新型提供了一种半导体晶片减磨用重块,该半导体晶片减磨用重块包括重块体,在重块体的上表面设有放置晶片的凹槽,凹槽的深度等于晶片所需的厚度与粘接层厚度之和。本实用新型在晶片减磨时,将晶片放置于重块体的凹槽内,当晶片减薄到所需厚度时,即使研磨机还没有到预定研磨时间,也不会继续减磨晶片,而是与重块上表面摩擦,停止晶片的研磨,阻止晶片继续变薄,直至研磨时间耗尽,保护了晶片,防止了晶片减薄速度过快时出现磨薄、磨废晶片情况的发生。 |
申请公布号 |
CN201427275Y |
申请公布日期 |
2010.03.24 |
申请号 |
CN200920029732.8 |
申请日期 |
2009.07.15 |
申请人 |
山东华光光电子有限公司 |
发明人 |
满忠斌;娄娟 |
分类号 |
B24B37/04(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I |
主分类号 |
B24B37/04(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1.一种半导体晶片减磨用重块,包括重块体,其特征是:在重块体的上表面设有放置晶片的凹槽,凹槽的深度等于晶片所需的厚度与粘接层厚度之和。 |
地址 |
250101山东省济南市高新区天辰大街1835号 |