成膜装置、基板处理装置及成膜方法

摘要

本发明提供一种成膜装置、基板处理装置及成膜方法，成膜装置包含以可旋转的方式设置在在容器内的旋转台。第1及第2反应气体供给部分别向旋转台的一个面供给第1反应气体及第2反应气体。向位于被供给第1反应气体的第1处理区域和被供给第2反应气体的第2处理区域之间的分离区域，从分离气体供给部喷出第1分离气体。分离区域设有顶面，在顶面和旋转台之间形成有用于使分离气体从分离区域向处理区域一侧流动的狭窄空间。在基板载置部设置有用于升降基板的升降机构。升降机构相对于旋转台而言，既能在上下方向上移动，又能沿旋转台的径向移动。

主权项

1.一种成膜装置，在容器内，实施依次向基板供给相互反应的至少两种反应气体的循环，在该基板上生成反应生成物的层，以沉积膜，其特征在于，该成膜装置包括：旋转台，其以能旋转的方式设在所述容器中；基板载置区域，其设在所述旋转台的一个面上，用于载置所述基板；第1反应气体供给部，其向所述旋转台的所述一个面供给第1反应气体；第2反应气体供给部，其在所述旋转台的旋转方向上远离所述第1反应气体供给部，且向所述旋转台的所述一个面供给第2反应气体；分离区域，其在所述旋转方向上，位于被供给所述第1反应气体的第1处理区域和被供给所述第2反应气体的第2处理区域之间，分离所述第1处理区域和所述第2处理区域；中央区域，为了将所述第1处理区域和所述第2处理区域隔离开，该中央区域位于所述容器的大致中央，且具有沿所述旋转台的所述一个面喷出第1分离气体的喷出孔；排气口，其用于将所述反应气体与扩散到所述分离区域两侧的分离气体及从所述中央区域喷出的分离气体一起排出；分离气体供给部，其设在所述分离区域，用于供给分离气体；顶面，其设在所述分离区域，位于所述分离气体供给部的所述旋转方向两侧，在该顶面和所述旋转台之间形成狭窄的空间，用于使分离气体从该分离区域流到处理区域侧；升降机构，其用于对设置在所述基板载置部上的所述基板进行升降，所述升降机构相对于所述旋转台不仅能在上下方向上移动，还能在旋转台的径向上移动。