| 发明名称 | 供化学机械抛光用的透明微孔材料 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种化学-机械抛光垫基材，包含一种具有平均孔径0.01微米至1微米的多孔材料。该抛光垫基材在200纳米至35,000纳米的至少一个波长下具有透光度10％或更多。本发明进一步指出一种包含该抛光垫基材的抛光垫、一种包含使用该抛光垫基材的抛光方法及一种包含该抛光垫基材的化学-机械装置。 | ||
| 申请公布号 | CN100589934C | 申请公布日期 | 2010.02.17 |
| 申请号 | CN200380102155.6 | 申请日期 | 2003.10.06 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 阿巴尼什沃·普拉萨德 |
| 分类号 | B24B37/04(2006.01)I;B24B49/12(2006.01)I;B24D7/12(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 主权项 | 1.一种化学-机械抛光垫基材，包含一种具有平均孔径0.01微米至1微米的多孔材料，其中该抛光垫基材在200纳米至35,000纳米的至少一个波长下具有透光度10％或更多，其中该多孔材料的空隙体积为90％或更少且密度为0.2克/立方厘米或更大，该多孔材料包含至少10％的封闭孔洞。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||